光譜儀的檢定方法
發(fā)布日期：2014-07-08
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（1）檢定設(shè)備： 顯微密度計、投影儀、秒表、兆歐表、分析天平（分度值為0.1mg）和交直流電弧發(fā)生器。有關(guān)的一級標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。
（2）標(biāo)定項目： 外觀、儀器的密封性、時間控制、分辨率、全譜面質(zhì)量、譜線密度均勻性、最低檢出濃度和測量重復(fù)性等。
（3）分辨率：首先選定攝譜條件為：5A交流電弧，相對孔徑不小于1/30，縫寬5um，縫高10mm，中間光闌3mm，曝光時間5s，普通感光析。
將譜片置于20倍投影儀，用記錄式顯微密度計描繪譜線輪廓，檢查下表中的鐵譜對是否分開。
（4）最低檢出濃度:采用直流電弧，電流5～8A，不預(yù)燃，陽極激發(fā)或采用交流電弧，電流10～15A，儀器相對孔徑不小于1/30，縫寬8um，曝光時間30s，電極間距205mm,光譜純石墨電極形狀符合規(guī)定。將標(biāo)準(zhǔn)充滿電極孔，使用普通感光板進行攝譜，將處理后的譜板置于投影儀上，觀察下表中的各元素呈現(xiàn)情況。
（5）測量精密度：7A交流電弧，儀器相對孔徑1/30，縫寬8um，高10mm，自電極激發(fā)，電極一端加工成錐形，頂端工作平面直徑2～2.5mm，間隙2mm預(yù)燃40s，曝光40s普通感光板，顯影4分鐘。溫度20±1℃.使用GBW02111～02115一級標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，條件攝譜，再對BW02112中的鎳（0.0089%）測量12次，按下式求出測量精密度（鎳分析線對305.031nm/Cu306.900nm）以密度差為縱坐標(biāo)，以含量為橫坐標(biāo)，繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線。
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